抛光工艺的影响

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【摘要】：

①温度：温度升高，加强了抛光液化学反应能力，抛光速率增加。但过高的温度会引起抛光　　液的挥发，以及加快化学反应，表面腐蚀严重，因而会产生不均匀的抛光效果，使抛光质量下　　降。　　②pH值：抛光液的pH值越高，碱性越强，反应速率越快。但pH值对被抛表面刻蚀、磨料的分　　解与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响，从而影响材料的去除率和表面质量，因此应严格　　控制。　　③压力：一般地，压力越大

　　①温度：温度升高，加强了抛光液化学反应能力，抛光速率增加。但过高的温度会引起抛光

　　液的挥发，以及加快化学反应，表面腐蚀严重，因而会产生不均匀的抛光效果，使抛光质量下

　　降。

　　②pH值：抛光液的pH值越高，碱性越强，反应速率越快。但pH值对被抛表面刻蚀、磨料的分

　　解与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响，从而影响材料的去除率和表面质量，因此应严格

　　控制。

　　③压力：一般地，压力越大，抛光速率越快。但是压力足够大时，抛光速率会略微下降，原

　　因是压力大，抛光垫承载抛光液能力下降。另外，压力大易形成破片现象。

　　④转速：转速增加，会引起抛光速率增加。但转速过高又会使抛光液在抛光垫上分布不均

　　匀，影响抛光质量。

　　⑤抛光液浓度：抛光液的浓度增加时，去除率也随之增加，但当磨粒浓度超过某一值时，材

　　料去除率将停止增加，维持一个常数值，这种现象称为去除饱和。而且过高的浓度，有可能造

　　成表面缺陷(划痕)增加，影响表面质量。

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